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超细氮化硅微粉气相合成新工艺

关键词 超细 , 氮化硅 , 微粉 , 气相 , 工艺 |2010-12-23 00:00:00|行业专利|来源 中国超硬材料网
摘要 名称超细氮化硅微粉气相合成新工艺公开号1280955公开日2001.01.24主分类号C01B21/068 

 

名称 超细氮化硅微粉气相合成新工艺 
公开号 1280955  公开日 2001.01.24   
主分类号 C01B21/068  分类号 C01B21/068 
申请号 99109605.3   
分案原申请号   申请日  
颁证日   优先权  
申请人 刘庆昌    地址 050011河北省石家庄市建设南大街24号  
发明人 刘庆昌    国际申请  
国际公布   进入国家日期  
专利代理机构 河北省专利事务所    代理人 王苑祥   
摘要   本发明是一种制备超细氮化硅微粉的气相合成新工艺,新工艺中采取直流等离子弧为热源的密闭反应容器中完成气相合成,所采用的基料为四氯化硅和氨,两者按1∶1.5—1.9比例(单位时间内注入液态重量比)注入反应器,在反应器内完成气相合成,并借助自由沉降过程中淬冷直接变成固态微粉,反应器内借助调控等离子体发生器输功率和N#-[2]、H#-[2]比例稳定离子弧,并保持反应温度在1000℃—1500℃之间,经淬冷细化的微粉经加热后处理去除氯化物杂质生成高纯度纳米级的Si#-[3]N#-[4]微粉。    
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